База для ногтей Deborah Base Levigante Smoothing 8.5 мл

Классическая база для ногтей — это первый слой покрытия, подготавливающий к нанесению цветного лака. Deborah Base Levigante Smoothing — многозадачное средство, которое дает максимум преимуществ. Кроме непосредственных функций, улучшенная формула обеспечивает превосходный уход. Тем самым помогает совершенствовать маникюр не только визуально, но и основательно.

Особенности базы для ногтей Deborah Base Levigante Smoothing:

- удобная кисточка и оптимальная консистенция;
- легко и равномерно наносится тонким слоем;
- идеально заполняет неровности и обеспечивает гладкое покрытие;
- содержит витамин Е, который помогает защитить ногти от внешних воздействий;
- усилена экстрактом ягод каму-каму, которые богаты витамином С для мгновенного придания блеска и постепенного укрепления;
- дополнена ингредиентами, способствующими регенерации клеток для глубокого восстановления ногтевой пластины;
- обеспечивает надежную «сцепку» между натуральными ногтями и искусственным материалом для повышенной стойкости.

Butyl Acetate, Ethyl Acetate, Nitrocellulose, Adipic Acid / Neopentyl Glycol / Trimellitic Anhydride Copolymer, Acetyl Tributyl Citrate, Isopropyl Alcohol, Talc, Stearalkonium Bentonite, Acrylates Copolymer, Hydrogenated Castor Oil / Sebacic Acid Copolymer, N-Butyl Alcohol, Ethocrylene, Silica, Aqua, Diacetone Alcohol, Tocopheryl Acetate, Trimethylpentanediyl Dibenzoate, Polyvinyl Butyral, Glycerin, Phosphoric Acid, Citric Acid, Myrciaria Dubia Seed Extractate, Sodium Cium Benzo491 Acetate, Nitrocellulose, Adipic Acid / Neopentyl Glycol / Trimellic Anhydride Copolymer, Acetyl Tributyl Citrate, Isopropyl Alcohol, Talc, Stearalkonium Bentonite, Acrylates Copolymer, Hydrogenated Castor Oil / Sebacic Acid Copolymer, N-Butyl Alcohol, Ethocrylene, Silica, Aqua, Diacetone Alcohol , Tocopheryl Acetate, Trimethylpentanediyl Dibenzoate, Polyvinyl Butyral, Glycerin, Phosphoric Acid, Citric Acid, Myrciaria Dubia Seed Extrac T, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Ci 77891, Ci 77491, Ci 19140.